電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗規(guī)程（海達）

1 試驗目的
本標準用于考核材料及其防護層的抗鹽霧腐蝕能力，以及相似防護層的工藝質量比較，也可用
來考核某些產(chǎn)品抗鹽霧腐蝕能力。
本標準不作為通用的腐蝕試驗方法。
2 試驗設備
2.1 用于制造試驗設備的材料必須是抗鹽霧腐蝕的和不影響試驗結果的。
2.2 試驗設備中的條件應該保持在本標準第3章規(guī)定的限度之內。
2.3 鹽霧不得直接噴射到試驗樣品上。
2.4 試驗設備內部的頂和壁等部位所聚集的水珠不得滴落在試驗樣品上。
2.5 試驗設備內外氣壓必須平衡。
3 試驗條件
3.1 鹽溶液采用氯化鈉（化學純以上）和蒸餾水配置，其濃度為5±0.1%（重量）。物化后的收集液，除
擋板擋回部分外，不得重復使用。
3.2 霧化前的鹽溶液的PH值在6.5~7.2（35℃）之間。配置鹽溶液時，允許采用化學純以上的稀鹽酸或
氫氧化鈉水溶液來調整PH值，但濃度仍須符合地3.1條的規(guī)定。
3.4 用面積為80cm2的漏斗收集連續(xù)霧化16h的鹽霧沉降量，有效空間內任一位置的沉降率為：
1.0~2.0ml / h.80cm2。
3.5 本標準采用連續(xù)霧化，推薦的標準試驗時間為16、24、48、96、168、336、672h。
3.6 霧化時必須防止油污、塵埃等雜質和噴射空氣的溫、濕度影響有效空間的試驗條件。
4 試驗程序
4.1 初始檢測
試驗前，試驗樣品必須進行外觀檢查，以及按有關標準進行其它項目的性能測定。試件樣品表
面必須干凈、無油污、無臨時性的防護層和其它弊病。
4.2 條件試驗
試驗樣品不得相互接觸，它們的間隔距離應是不影響鹽霧能自由降落在試件樣品上，以及一個
試驗樣品上的鹽溶液不得滴落在其它試驗樣品上。
試驗樣品放置位置由有關標準確定，一般按產(chǎn)品和材料使用狀態(tài)放置（包括外罩等）；平板試驗
樣品需使受試面與垂直方向成30°角。
試驗樣品放置后按第3章規(guī)定的試驗條件進行條件試驗，試驗持續(xù)時間按有關標準規(guī)定從第3.5
條的規(guī)定中選取。
4.3 恢復
試驗結束后，用流動水輕輕洗掉試驗樣品表面鹽沉積物，再在蒸餾水中漂洗，洗滌水溫不得超
過35℃，然后在標準的恢復大氣條件下恢復1~2h，或按有關標準規(guī)定的其它恢復條件和時間。
4.4 zui后檢測
恢復后的試驗樣品應及時檢查記錄，檢查項目、試驗結果評定和合格要求均由有關標準規(guī)定。
4.5 采用本試驗方法時，應對下列項目作出具體規(guī)定：
a.初始檢測  b.安裝細節(jié)  c.試驗持續(xù)時間  d.恢復  e.zui后檢測